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        共探微觀技術新境 | 第一屆賽默飛ChemiSEM用戶會成功舉辦
        2026 06-01
        共探微觀技術新境 | 第一屆賽默飛ChemiSEM用戶會成功舉辦

        2026年5月22日,由賽默飛世爾科技主辦、北京歐波同光學技術有限公司獨家協(xié)辦的第一屆賽默飛ChemiSEM用戶會在蘇州順利召開。本次會議旨在加強科研、高校及工業(yè)領域用戶的技術交流與合作,聚焦SEM-

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        • 06-052026
          賽默飛電子顯微鏡的技術體系與多領域科研解決方案

          賽默飛電子顯微鏡以先進的技術體系為根基,憑借跨領域的科研解決方案,在全球科研與工業(yè)領域占據(jù)重要地位,為微觀世界的精準探索提供了核心支撐。一、技術體系:多維度突破的精密架構賽默飛電子顯微鏡的技術體系圍繞

        • 06-022026
          掃描電鏡顯微鏡的工作原理與微觀形貌表征應用

          掃描電子顯微鏡是現(xiàn)代微觀分析的核心工具,憑借高分辨率、大景深與多功能分析能力,成為解析物質微觀形貌與結構的關鍵設備,其工作原理與應用深度支撐著材料、生物、半導體等多領域的科研與產(chǎn)業(yè)發(fā)展。一、工作原理:

        • 06-012026
          PCB鎳金鍍層分析難題?看看歐波同的解決方案!

          在電子制造領域,PCB電路板的鎳金鍍層處理直接影響產(chǎn)品的可焊性、耐磨性與互連可靠性,化學鎳金(ENIG)和電鍍鎳金兩大工藝的鍍層檢測與分析,也因此成為行業(yè)質量把控的關鍵環(huán)節(jié)。但納米級金鍍層的觀察、鍍層

        • 05-252026
          便攜式合金分析儀基體校正與元素定量分析技術

          便攜式合金分析儀的定量精度,核心瓶頸不在探測器,而在基體效應校正。合金中元素間的吸收-增強效應會嚴重扭曲熒光強度與濃度的線性關系,若不校正,誤差可達數(shù)倍。主流校正體系分為三條技術路線。第一是經(jīng)驗系數(shù)法

        • 04-102026
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          在半導體CMP(ChemicalMechanicalPlanarization)工藝中,拋光液(slurry)中磨料顆粒的分散性、聚集行為直接決定去除率、拋光均勻性與劃傷風險。傳統(tǒng)SEM檢測往往依賴干

        • 04-102026
          晶硅太陽能電池界面狀態(tài)的觀察

          晶硅太陽能電池是利用半導體硅材料的光伏效應,將太陽光能直接轉化為電能的核心器件。其核心結構為P型或N型硅片構成的PN結。當光子能量大于硅帶隙(約1.12eV)的光照射到電池表面時,硅原子吸收光子產(chǎn)生電

        • 04-032026
          掃描電鏡日常維護、校準與故障分析

          日常維護環(huán)境控制:掃描電鏡對環(huán)境要求嚴苛,需保持室溫在20-25℃,濕度≤60%,避免溫度波動或濕度過高導致儀器性能下降。設備應遠離振動源,并安裝防震臺,同時配備獨立空調和除濕機,防止灰塵進入。清潔保

        • 03-032026
          手持合金分析儀如何工作:XRF熒光光譜技術深度解析

          手持合金分析儀基于XRF(X射線熒光光譜)技術,通過激發(fā)樣品中的原子并分析其釋放的特征熒光,實現(xiàn)元素定性與定量檢測。其工作原理可深度解析如下:核心機制:X射線激發(fā)與熒光輻射當分析儀內(nèi)置的微型X射線管發(fā)


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