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6/8英寸全自動槽式清洗機
GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應用，可用于典型0.35um、0.1...
型號： GAMA Seri... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:55:40 對比

GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機北方華創
12英寸槽式清洗設備
12英寸槽式清洗設備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導體、襯底材料、硅基微顯示領域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統、電源...
型號： Pinnacle3... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:51:45 對比

Pinnacle300 12英寸槽式清洗設備北方華創
全自動硅料清洗機
主要用于對硅材料行業中多晶硅塊進行清洗干燥處理
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:29:24 對比

硅料清洗機全自動硅料清洗機 customized
晶片清洗機
英思特長期致力于半導體等行業干濕制程設備、自動供/排液系統、甩干機等設備的設計、生產、銷售及設備的優化。期待與您的合作！
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:23:49 對比

晶片清洗機半導體
硅芯清洗機
設備介紹:硅芯清洗機本設備為柜體式腐蝕機,整臺設備均采用進口件.基本材質:箱體材質:德國茲白色聚丙烯(PP) 門板材質:德國透明聚氯乙烯(PVC)腐蝕槽材質:德...
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:21:30 對比

硅芯清洗機半導體英斯特
硅片腐蝕清洗機
英思特長期致力于半導體等行業干濕制程設備、自動供/排液系統、甩干機等設備的設計、生產、銷售及設備的優化。期待與您的合作！
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:17:39 對比

清洗機腐蝕清洗機硅片腐蝕
CMP后清洗機
GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CEANE... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:14:15 對比

半導體清洗濕法
CMP后清洗機
GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:11:54 對比

半導體濕法清洗
CMP后清洗機
GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:09:28 對比

半導體濕法化學機械拋光
CMP后清洗機
GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:06:03 對比

半導體濕法化學機械拋光
晶圓濕法清洗工作臺
WaferStorm平臺是先進封裝、MEMS、射頻、數據存儲和光子學市場中許多關鍵溶劑型工藝的行業選擇。有 2 個版本——手動加載（ML）和 3300 系列...
型號： 3300系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:44:48 對比

晶圓清洗清洗設備
條形等離子清潔系統
80 Plus 條形等離子清潔系統專為半導體加工而開發，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同...
型號： 80 Plus 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:27:06 對比

半導體前道清洗
大氣式等離子清潔系統
PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
型號： PlasmaPen... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:25:12 對比

半導體前道清洗
清洗設備
SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術節點提供了優良的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩定性和高性能使平臺能...
型號： ASx 系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:33:18 對比

SUSS 清洗設備研磨
掩膜版清洗系統
掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜清洗處理系統滿足下一代光刻節點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應對 ...
型號： MaskTrack... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:31:14 對比

SUSS 掩膜版清洗
晶片清洗機
本機是一款全自動晶片刷洗機，全程封閉環境采用機械手自動操作，具備刷洗甩干功能，適用于各種半導體襯底材料拋光后的刷洗，可有效減少晶片表面顆粒污染。
型號： TWB-200 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 21:09:51 對比

CMP
CMP后清洗機
該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗...
型號： TSC-100/3... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 21:08:01 對比

CMP
CMP后清洗機
該系列設備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設備，采用連線式結構，設備加配全自動上下片系統。該系列設備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，...
型號： TSC-150C/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 21:05:49 對比

CMP后清洗
單片式化學清洗機
KS-CM300/200 單片式化學清洗機適用于沉積前清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、CMP后清洗等多種前段工藝（FEOL）和后段工藝（BEOL）清洗進程，可...
型號： KS-CM300/... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:15:51 對比

清洗設備
紫外線臭氧清洗設備
UV-300HC紫外線臭氧清洗設備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機，用于生產。這個行業先的系統有2個裝載盒，可以達到200-300nm/min的高灰化率。該...
型號： UV-300HC 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:15:58 對比

紫外線臭氧清洗設備 UV-300HC SAMCO

深圳市矢量科學儀器有限公司

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